Key Laboratory of Material Physics for Ministry of Education, Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, CHN
PECVD A-Si: H film Furnace annealing Rapid thermal annealing Grain size
Key Lab. of Mater. Phys., Dept. of Phys., Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, CHN
TiO2 thin films Sputtering Photoconductive UV detector Photoresponse 半导体光子学与技术
2004, 10(4): 245
1 郑州大学工程力学系, 河南 郑州 450052
2 中国科学院安徽光学精密机械研究所, 安徽 合肥 230031
3 郑州大学物理工程学院, 河南 郑州 450052
报道了一种碳氮薄膜材料的拉曼光谱,该光谱明显具有两个特征拉曼峰,和已有的碳基薄膜及碳氢薄膜相区别,其峰值位置分别位于1400cm~(-1)及1370cm~(-1)。根据X射线衍射(XRD)分析和扫描电子显微镜(SEM)对该薄膜的形貌观察,初步认定该薄膜是由纳米级含氮弯曲层状石墨结构组成。拉曼峰1400cm~(-1)对应与弯曲面内C-C振动,拉曼峰1370cm cm~(-1)对应于长程无序而形成的D-线。该碳氮薄膜样品是采用微波等离子体化学气相沉积方法(MPCVD)制备而成。
光谱学 拉曼光谱 碳氮薄膜 碳基薄膜 化学气相沉积