作者单位
摘要
Key Laboratory of Material Physics for Ministry of Education, Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, CHN
PECVD A-Si: H film Furnace annealing Rapid thermal annealing Grain size 
半导体光子学与技术
2006, 12(1): 15
作者单位
摘要
Key Lab. of Mater. Phys., Dept. of Phys., Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, CHN
TiO2 thin films Sputtering Photoconductive UV detector Photoresponse 
半导体光子学与技术
2004, 10(4): 245
作者单位
摘要
1 郑州大学工程力学系, 河南 郑州 450052
2 中国科学院安徽光学精密机械研究所, 安徽 合肥 230031
3 郑州大学物理工程学院, 河南 郑州 450052
报道了一种碳氮薄膜材料的拉曼光谱,该光谱明显具有两个特征拉曼峰,和已有的碳基薄膜及碳氢薄膜相区别,其峰值位置分别位于1400cm~(-1)及1370cm~(-1)。根据X射线衍射(XRD)分析和扫描电子显微镜(SEM)对该薄膜的形貌观察,初步认定该薄膜是由纳米级含氮弯曲层状石墨结构组成。拉曼峰1400cm~(-1)对应与弯曲面内C-C振动,拉曼峰1370cm cm~(-1)对应于长程无序而形成的D-线。该碳氮薄膜样品是采用微波等离子体化学气相沉积方法(MPCVD)制备而成。
光谱学 拉曼光谱 碳氮薄膜 碳基薄膜 化学气相沉积 
中国激光
2003, 30(s1): 105

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